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  • GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀
    GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀

    GSL-1100X-SPC-16-3等離子三靶濺射儀是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的最-簡單、可靠、經濟的鍍膜設備。本機特別之處是在一個真空室內安裝了三個靶,旋轉樣品臺可依次在同一樣品上涂覆三種材料。因此,適用于實驗室各種復合膜樣品的制備,以及非導體材料實驗電極的制作。

    更新時間:2024-11-05型號:GSL-1100X-SPC-16-3瀏覽量:1140
  • GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀
    GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀

    GSL-1100X-SPC-16M磁控濺射鍍膜儀是依據二極(DC)直流濺射原理設計而成的最-簡單、可靠、經濟的鍍膜設備,適用于實驗室各種復合膜樣品的制備,以及非導體材料實驗電極的制作。

    更新時間:2024-11-05型號:GSL-1100X-SPC-16M瀏覽量:1618
  • VTC-1RF1 英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀
    VTC-1RF1 英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀

    VTC-1RF是一款小型臺式單靶等離子濺射儀(射頻磁控型),配有1英寸的磁控等離子濺射頭和射頻(RF)等離子電源,此款設備主要用于制作非導電薄膜,特別是一些氧化物薄膜。對于新型非導電薄膜的探索,它是一款廉價并且高效的實驗幫手。 VTC-1RF 1 英寸小型磁控射頻濺射鍍膜儀

    更新時間:2024-11-05型號:VTC-1RF瀏覽量:1477
  • VTC-2RF2英寸300W射頻磁控濺射鍍膜儀
    VTC-2RF2英寸300W射頻磁控濺射鍍膜儀

    VTC-2RF是一款小型的射頻(RF)等離子體磁控濺射鍍膜儀系統,系統中包含了所有所需的配件,如300W(13.5MHz)的RF電源、2“的磁控濺射頭、石英真空腔體、真空泵和溫度控制器等。對于制作一些金屬薄膜及非金屬薄膜,它是一款物美價廉的實驗幫手。 VTC-2RF 2英寸300W射頻磁控濺射鍍膜儀

    更新時間:2024-11-05型號:VTC-2RF瀏覽量:1488
  • VTC-16-3HD小型三靶等離子濺射儀
    VTC-16-3HD小型三靶等離子濺射儀

    VTC-16-3HD是一款緊湊型CE認證的等離子薄膜濺射儀(直流普通型),基片最大尺寸2英寸,加熱溫度為500度和控制面板為觸摸屏模式。它可以濺射三種類型的靶材和放置樣品的直徑是50mm . 旋轉樣品臺,可以依次在同一樣品上涂覆三種材料,金靶,銀,銅, 它可以與真空泵,不銹鋼波紋管KFD25快速卸裝卡箍相連用。 VTC-16-3HD小型三靶等離子濺射儀

    更新時間:2024-11-05型號:VTC-16-3HD瀏覽量:1102
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